маска для рентгеновской литографии
- маска для рентгеновской литографии
- rentgeninės litografijos kaukė
statusas T sritis radioelektronika
atitikmenys: angl. X-ray lithography mask
vok. Röntgenmaske, f
rus. маска для рентгеновской литографии, f; рентгеношаблон, m
pranc. masque pour lithographie aux rayons X, m
Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“.
Kazimieras Gaivenis, Gytis Juška, Vidas Kalesinskas.
2000.
Look at other dictionaries:
Röntgenmaske — rentgeninės litografijos kaukė statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. X ray lithography mask vok. Röntgenmaske, f rus. маска для рентгеновской литографии, f; рентгеношаблон, m pranc. masque pour lithographie aux rayons X, m … Radioelektronikos terminų žodynas
X-ray lithography mask — rentgeninės litografijos kaukė statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. X ray lithography mask vok. Röntgenmaske, f rus. маска для рентгеновской литографии, f; рентгеношаблон, m pranc. masque pour lithographie aux rayons X, m … Radioelektronikos terminų žodynas
masque pour lithographie aux rayons X — rentgeninės litografijos kaukė statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. X ray lithography mask vok. Röntgenmaske, f rus. маска для рентгеновской литографии, f; рентгеношаблон, m pranc. masque pour lithographie aux rayons X, m … Radioelektronikos terminų žodynas
rentgeninės litografijos kaukė — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. X ray lithography mask vok. Röntgenmaske, f rus. маска для рентгеновской литографии, f; рентгеношаблон, m pranc. masque pour lithographie aux rayons X, m … Radioelektronikos terminų žodynas
рентгеношаблон — rentgeninės litografijos kaukė statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. X ray lithography mask vok. Röntgenmaske, f rus. маска для рентгеновской литографии, f; рентгеношаблон, m pranc. masque pour lithographie aux rayons X, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Термическое оксидирование — … Википедия
РЕНТГЕНОВСКАЯ ЛИТОГРАФИЯ — метод микроэлектронной технологии, заключающийся в формировании с субмикронным разрешением защитной маски заданного профиля на поверхности подложки; осуществляется при помощи рентг. излучения длиной волны l 0,4 5 нм; один из методов… … Физическая энциклопедия